離子濺射儀產(chǎn)品及廠家
金華杰維修 shimadzu turbo pump controllers日本島津ei/fti全系列渦輪分子泵控制器、磁懸浮分子泵控制器，分子泵電源，分子泵驅(qū)動(dòng)器，經(jīng)驗(yàn)豐富，檢測設(shè)備齊全，技術(shù)可靠，有多種型號(hào)備用分子泵及控制器，分子泵維修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免費(fèi)提供相關(guān)技術(shù)支持。
更新時(shí)間:2025-04-29
用于實(shí)驗(yàn)室或現(xiàn)場快速測定水和廢水的鐵離子濃度值。
更新時(shí)間:2025-04-23
供火力發(fā)電廠、核發(fā)電廠、石油、化工等相關(guān)行業(yè)對(duì)其鍋爐給水、蒸汽、凝結(jié)水、水內(nèi)冷發(fā)電機(jī)冷卻水和爐水中的鐵離子濃度測定的必備儀表。
更新時(shí)間:2025-04-23
●供電電源電壓：ac 220v±15%/50hz或ac 110v±15%/60hz； ●工作電流：0.075a max speed； ●風(fēng)量：120cfm； ●離子平衡電壓：≤±5v；
更新時(shí)間:2025-04-23
jc503-bfn臺(tái)式離子風(fēng)機(jī),專為局部區(qū)域而設(shè)計(jì),具有體積超小,重量輕,安裝使用方便等特點(diǎn),特別適用細(xì)小型空間,具有出眾的除靜電性能,防止靜電污染及破壞.是電子產(chǎn)品生產(chǎn),維修等個(gè)人型靜電防護(hù)區(qū)域的理想設(shè)備.
更新時(shí)間:2025-04-23
產(chǎn)品特點(diǎn) 便攜式設(shè)計(jì)，易操作；風(fēng)力大；除靜電除塵迅速
更新時(shí)間:2025-04-23
本能地達(dá)至0+/-5v離子平衡，免除保養(yǎng)調(diào)整的煩腦，對(duì)靜電破壞極敏感的組件，提供好的保護(hù)。內(nèi)置專利靜電針清潔擦，簡化保養(yǎng)程序。
更新時(shí)間:2025-04-23
離子風(fēng)槍是一種高效的靜電消除裝置，通過高壓氣流將離子發(fā)生裝置所產(chǎn)生的大量正負(fù)離子迅速吹向所要除靜電的區(qū)域，中和物體上所積累的靜電電荷，同時(shí)高速離子氣流將靜電吸引的塵粒吹除，并阻止其再次吸引塵埃粒子；廣泛適用于電子裝配、徽電子制造、生物制品、制藥、注塑、印刷等行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-04-23
xf806-rcm-10混凝土氯離子擴(kuò)散系數(shù)測定儀是我公司自主開發(fā)的檢驗(yàn)混凝土的長期性耐久性性能的儀器,此儀器完全符合gb/t 50082-2009標(biāo)準(zhǔn)。
更新時(shí)間:2025-04-23
總鋅在線監(jiān)測儀是技術(shù)上基于中國標(biāo)準(zhǔn)方法而研制的新一代全自動(dòng)水中總鋅在線分析儀。經(jīng)過預(yù)處理的水樣由注射泵注入到一個(gè)特殊反應(yīng)器中后首先與酸性氧化劑進(jìn)行反應(yīng)，將水樣中所有形態(tài)的鋅統(tǒng)一氧化成二價(jià)鋅離子，接著調(diào)整溶液的ph值，后加入特性顯色劑進(jìn)行顯色反應(yīng)，在測量范圍內(nèi)，其顏色的改變程度與水樣中的總鋅濃度成正比，通過測量顏色變化的程度，就可以計(jì)算出水樣中總鋅的含量。
更新時(shí)間:2025-04-23
bx104-215型離子活度計(jì)為4 1/2位led數(shù)字顯示，具有定位調(diào)節(jié)、等電位調(diào)節(jié)、溫度補(bǔ)償、斜率校準(zhǔn)等功能。
更新時(shí)間:2025-04-23
總鎳在線監(jiān)測儀是技術(shù)上基于中國標(biāo)準(zhǔn)方法gb11910-89而研制的新一代全自動(dòng)水中總鎳在線分析儀，該產(chǎn)品是慕迪科技在多年水質(zhì)分析類產(chǎn)品研究基礎(chǔ)上推出的一系列免維護(hù)在線監(jiān)測儀。
更新時(shí)間:2025-04-23
擁有 4 款轉(zhuǎn)子的新型 24 孔小型離心機(jī) hg220-5424 能滿足每個(gè)分子和生物實(shí)驗(yàn)室的需求。
更新時(shí)間:2025-04-23
大多數(shù)測試條可以在10-120秒內(nèi)完成測試，用戶可以快速獲取結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-04-23
小型臺(tái)式離子風(fēng)機(jī)，具有出眾的除靜電性能，防止靜電污染及破壞。是電子產(chǎn)品生產(chǎn)，維修臺(tái)等個(gè)人型靜電防護(hù)區(qū)域的理想設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-04-23
它適用于樣水中微量硅酸根、磷酸根、鐵、銅、聯(lián)氨、全鐵、余氯、氨等元素的定量測定。 廣泛的運(yùn)用火力發(fā)電廠除鹽水蒸汽、 凝結(jié)水爐水及化工、制藥等行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-04-23
jc516-yl2a 陰離子洗滌劑檢測儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水，以便控制水達(dá)到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
更新時(shí)間:2025-04-23
日立高新磁控濺射器mc1000日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描
更新時(shí)間:2025-04-22
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動(dòng)樣品擋板，可調(diào)節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲(chǔ)存等功能，方便快捷。
更新時(shí)間:2025-04-03
桌面式小型濺射儀kt-z1650pvd磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（pvd）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-04-03
桌面式磁控濺射儀kt-z1650pvd，外形小巧方便移動(dòng)，觸摸屏控制工藝記憶儲(chǔ)存，自動(dòng)電動(dòng)擋板閥保護(hù)樣品，石英腔室更加潔凈方便清潔。
更新時(shí)間:2025-04-03
自 1995 年以來，sindlhauser materials 一直在為各地的工業(yè)公司提供種類繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結(jié)合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術(shù)為各種產(chǎn)品鍍膜的行業(yè)運(yùn)營。
更新時(shí)間:2025-03-05
卷繞式濺射設(shè)備spw系列spw系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進(jìn)行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實(shí)施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
更新時(shí)間:2025-03-05
批次式濺射設(shè)備sv系列sv系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-03-05
load-lock式濺射設(shè)備cs-200load-lock式濺射設(shè)備cs-200，是可對(duì)應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-03-05
濺射鍍膜設(shè)備smd系列（立式）smd 系列是鍍金屬膜、ito、igzo、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅smd系列就有超過1000臺(tái)的豐富的采用實(shí)績，在各種各樣的生產(chǎn)環(huán)境下運(yùn)轉(zhuǎn)。及時(shí)反映從生產(chǎn)現(xiàn)場聽取的意見，進(jìn)一步提高設(shè)備的可靠性。
更新時(shí)間:2025-03-05
錳離子測試儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業(yè)、生活或工業(yè)用水的鉻濃度檢測，以便控制水的錳達(dá)到規(guī)定的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
更新時(shí)間:2025-03-03
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
nsc-4000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
更新時(shí)間:2024-10-25
儀器儲(chǔ)存了多種常用的離子模式如：h+、ag+、na+、k+、nh4+、cl-、f-、no3-、bf4-、cn-、cu2+、pb2+、ca2+等。測量濃度單位在(0.000～19990)mg/l、mol/l、px相互轉(zhuǎn)換。
更新時(shí)間:2024-10-25
jy-s100磁控離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌面小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
更新時(shí)間:2024-09-26
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 lv_ct-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，可選通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射設(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免交叉污染。ccu-010系列鍍膜儀標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時(shí)間:2024-09-14
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 hv為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。ccu-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。
更新時(shí)間:2024-09-14
上海康儀離子計(jì)pxs-450/離子測定儀pxs-450由上海書培實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上？祪x離子計(jì)pxs-450/離子測定儀pxs-450產(chǎn)品介紹:
更新時(shí)間:2024-08-28
光學(xué)隔振平臺(tái)由鋼質(zhì)蜂巢內(nèi)核、頂板及底板組成，在降低重量的提下提供了足夠的硬度。光學(xué)隔振平臺(tái)頂板為高導(dǎo)磁性不銹鋼材料，底板為氧化處理碳鋼板，四周側(cè)板內(nèi)層為碳鋼板外層為黑色鋁塑板.
更新時(shí)間:2024-04-10
磁控離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控濺射的原理是，在電場內(nèi)在疊加一個(gè)磁場，這樣電子在疊加場內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)，行程很長，每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多，所以可以在低電壓下，有較好的真空度。
更新時(shí)間:2024-04-10
鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè)，如公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一
更新時(shí)間:2024-04-10
氣體從腔體底部向上經(jīng)分布器以氣泡形式通過液層，氣相中的反應(yīng)物溶入液相并進(jìn)行反應(yīng)，氣泡的攪拌作用可使液相充分混合。鼓泡塔結(jié)構(gòu)簡單，沒有運(yùn)動(dòng)部件，適用于氣體加濕，氣液反應(yīng)。
更新時(shí)間:2024-04-10
氣體從腔體底部向上經(jīng)分布器以氣泡形式通過液層，氣相中的反應(yīng)物溶入液相并進(jìn)行反應(yīng)，氣泡的攪拌作用可使液相充分混合。鼓泡塔結(jié)構(gòu)簡單，沒有運(yùn)動(dòng)部件，適用于氣體加濕，氣液反應(yīng)。各種非標(biāo)法蘭定制
更新時(shí)間:2024-04-10
等離子清洗機(jī)作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。
更新時(shí)間:2024-04-10
探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。
更新時(shí)間:2024-04-10
探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。
更新時(shí)間:2024-04-10
電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是鄭州科探儀器設(shè)備有限公司生產(chǎn)，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面
更新時(shí)間:2024-04-10
浮子流量計(jì)氣體配比器是一款手動(dòng)經(jīng)濟(jì)型的氣體配比器系統(tǒng) 流量計(jì)由高精密針閥控制流量 主要運(yùn)用精度要求不高的場合 如管式爐氣氛保護(hù)時(shí)氣體流量控制 大氣環(huán)境檢測與分析設(shè)備 化工、石化、冶金、光纖熔煉 金屬焊接惰性氣體配比混合 cvd pecvd系統(tǒng) 高溫加熱惰性氣體流量控制等
更新時(shí)間:2024-04-10
科探標(biāo)準(zhǔn)復(fù)合分子泵機(jī)組是一臺(tái)清潔的高真空獲得設(shè)備。此設(shè)備是根據(jù)真空知識(shí)原理，利用機(jī)械泵、渦輪分子泵組合成的真空獲得系統(tǒng)，具有啟動(dòng)時(shí)間快、真空度高、操作方便等特點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于表面分析、加速器技術(shù)、等離子體技術(shù)、電真空器件制造及真空的各個(gè)域。設(shè)備的具體組成主要包括真空測量系統(tǒng)、真空室、閥門及真空管路、電器控制系統(tǒng)等
更新時(shí)間:2024-04-10
最新產(chǎn)品
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